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ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径

ASML 着眼未来：考虑推出通用 EUV 光刻平台，覆盖不同数值孔径

5 月 23 日消息，据荷兰媒体 Bits&Chips 报道，ASML 顾问、前任 CTO 马丁・范登布林克（Martin van den Brink）近日称，这家光刻机制造商考虑推出一个通 ...

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