8 月 16 日消息，首尔经济日报昨日（8 月 15 日）报道，三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间，安装首台来自 ASML 的 High-NA EUV 光刻机，并预估
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- 业界
- 2024-08-16
8 月 14 日消息，东京电子 TEL 当地时间 7 月 8 日宣布推出 Acrevia GCB（注：气体团簇光束，Gas Cluster Beam）系统，该系统可对 EUV 光刻图案进行临界尺寸和
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- 业界
- 2024-08-14
2 月 3 日消息，根据韩媒 The Elec 的报道，DRAM 内存巨头三星和美光均将在下一个内存世代，也就是 1c nm 工艺引入更多新技术。
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- 业界
- 2024-02-03
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